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您的位置:首頁(yè)  -  產(chǎn)品中心  -  研磨分散機(jī)  -  高剪切研磨分散機(jī)  -  GMD2000/4機(jī)械剝離法石墨烯研磨分散機(jī)

機(jī)械剝離法石墨烯研磨分散機(jī)

通過(guò)用SGN機(jī)械剝離法石墨烯研磨分散機(jī)設(shè)備采用高速研磨分散技術(shù),通過(guò)高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)具有成本低、易操作、無(wú)污染、投資小等優(yōu)勢(shì)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):GMD2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-09-17
  • 訪  問(wèn)  量:1980
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產(chǎn)品詳情

機(jī)械剝離法石墨烯研磨分散機(jī),石墨烯水性漿料分散機(jī),石墨烯NMP漿料分散機(jī),碳納米管和石墨烯等新型材料研磨分散機(jī),碳納米管和石墨烯等新型材料分散設(shè)備

現(xiàn)在比較火的心材料石墨烯的制備方法主要有機(jī)械剝離法、氧化還原法、化學(xué)氣相沉積法、高溫裂解法、插層剝離法、液相剝離法等,其中氧化還原法是國(guó)內(nèi)研究制備石墨烯的主要方法,國(guó)外以化學(xué)氣相沉積法為主要研究方向。石墨烯的幾種主要制備方法中,氧化還原法具有高效、低成本的優(yōu)勢(shì),可以大量制備石墨烯的衍生物,但該方法制備過(guò)程中,使用大量的強(qiáng)氧化劑和還原劑造成環(huán)境污染,且對(duì)石墨烯的晶體結(jié)構(gòu)造成破壞,形成缺陷,影響石墨烯的綜合性能;化學(xué)氣相沉積法的主要優(yōu)勢(shì)是制備大面積的石墨烯,但其成本昂貴、工藝復(fù)雜、投資巨大,目前還不能實(shí)現(xiàn)規(guī)模化發(fā)展;高溫裂解法是利用單晶襯底生長(zhǎng)單晶石墨烯,目前主要以SiC晶體為主,但受襯底材料的影響,難以獲得高質(zhì)量、大面積的石墨烯材料,且獲得的石墨烯材料的表面性質(zhì)受襯底材料影響較大,限制其應(yīng)用領(lǐng)域。

相比之下,采用我們SGN石墨烯研磨分散機(jī)進(jìn)行機(jī)械剝離法是一種綠色、高效的制備方法,能夠大規(guī)模地制備高質(zhì)量的石墨烯,通過(guò)用SGN石墨烯等新型材料研磨分散設(shè)備采用高速研磨分散技術(shù),通過(guò)高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)具有成本低、易操作、無(wú)污染、投資小等優(yōu)勢(shì)。 北京航天、北京航科、廈門等等地方研究所之類的石墨烯生產(chǎn)都有在用我們SGN的設(shè)備,而且我們?cè)跓o(wú)錫宜興有自己的石墨烯生產(chǎn)線,踏入石墨烯行業(yè)比較早,相關(guān)經(jīng)驗(yàn)也比較豐富。

機(jī)械剝離法石墨烯研磨分散機(jī)結(jié)構(gòu)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

 

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

(價(jià)格電議薛:,,公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)!)

設(shè)備選型:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。

5 本系列機(jī)型具有短程送料能力,無(wú)自吸功能,須選用高位進(jìn)料;物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí),須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

 

 

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